第三方工业硅检测中心，工业硅成分含量检测

工业硅是以硅石和碳质还原剂为原料经电炉冶炼制成的产品，是电子材料、太阳能光伏、有机硅和铝合金等行业的重要基础原料。其检测是通过化学成分分析、物理性能测试等方法，对产品的主含量、杂质元素含量及粒度组成进行测定，确保产品质量满足下游不同应用领域的严格要求。

可检测：

冶金级工业硅、化学级工业硅、太阳能级工业硅、电子级工业硅、高纯工业硅、普通工业硅、553工业硅、441工业硅、3303工业硅、2202工业硅、1101工业硅、块状工业硅等。

检测项目包括：

1、主成分含量测定：测定硅元素的含量。

2、杂质元素分析：定量分析铁、铝、钙等主要杂质元素的含量。

3、微量元素分析：检测磷、钛、锰、碳等微量杂质元素的含量。

4、粒度组成测定：测定工业硅块的粒度分布范围及偏差。

5、外观质量检验：检查工业硅块的表面洁净度及外来夹杂物。

6、断面观察：通过观察断面判断产品冶炼质量。

7、水分含量测定：检测产品中的水分含量。

8、单位质量偏差测定：检查每块工业硅的质量均匀性。

检测标准有：

1、GB/T 2881-2023 工业硅

2、GB/T 14849.1-2023 工业硅化学分析方法 第1部分：铁含量的测定

3、GB/T 14849.2-2023 工业硅化学分析方法 第2部分：铝含量的测定

4、GB/T 14849.3-2023 工业硅化学分析方法 第3部分：钙含量的测定

5、GB/T 14849.4-2023 工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

工业硅检测周期：

到样后5-7个工作日（可加急），具体需咨询工程师。

为什么选择我们：

【技术人才】：拥有超过700名人员，其中技术团队90%以上毕业于国家“985”“211”等重点高校，具有硕士、博士学位。

【仪器设备】：500余台（套）仪器设备，包括红外光谱（IR）、核磁共振（NMR）、电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP）、电感耦合等离子体发射质谱仪（ICP-MS）、液相二级质谱（LC-MS-MS）、气相色谱-质谱联用仪（GC-MS）、高效液相色谱（HPLC）、气相色谱仪（GC）、X射线荧光光谱(XRF)等。

【资质认可】：获得中国合格评定国家认可委员会颁发的实验室认可证书（CNAS）、质量技术监督局颁发的检验检测机构资质认定证书（CMA）。

【服务客户】：累计为公检法单位、高校及科研机构、企业等超过10万家客户提供咨询、分析、检测、测试、鉴定研发等技术服务。